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片状碳化硅-超薄碳化硅

片状碳化硅是由碳化硅颗粒经热压、无压烧结而成。它们具有高导热率、与芯片匹配的热膨胀系数、低密度、轻重量、高硬度和高弯曲强度。

    产品详情

    片状碳化硅是由碳化硅颗粒经热压、无压烧结而成。它们具有高导热率、与芯片匹配的热膨胀系数、低密度、轻重量、高硬度和高弯曲强度。

    我们可以制备形状复杂、不同厚度的薄片材料,也可以根据需要定制产品。
    SSIC工艺具有生产效率高、产量高、加工量小的优点,非常适合生产密封件、管道、薄片、球体、小件等SIC陶瓷部件。

    公司采用自产的高纯SIC原材料,在生产过程中严格检测SSIC的各项指标,确保产品的质量。

    产品技术参数

    产品技术参数
    特性 健康)状况 单元 参数值
    碳化硅零部件 % 99-99.99
    堆积密度 克/立方厘米 3.13-3.22
    弹性模量 平均绩点 ≥400
    维氏硬度 公斤/平方毫米 ≥2600
    弯曲强度(3分) 20℃ 兆帕 ≥400
    断裂韧性 兆帕·m1/2 3.5-4.5
    抗压强度 20℃ 兆帕 ≥3500
    最高使用温度 惰性气氛下 1800
    热膨胀系数 K-1*10-6 4.43±0.1
    导热系数 宽/(米*克) 258±15

    产品优势

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    高强度、高密度、硬度接近金刚石、耐磨;
    优良的化学稳定性,能抵抗各种酸、碱、有机溶剂的腐蚀;
    导热系数高、热膨胀系数低、耐热冲击、高温稳定性好;
    耐高温1700摄氏度(惰性气氛下),具有优异的抗氧化性能;
    比刚度高,热均匀性优良,长期使用后不易弯曲变形。

    公司介绍

    山东华谊科技新材料有限公司位于中国,成立于2018年。公司致力于碳化硅、碳化硼等材料在多个行业的开发和应用。

    公司主要产品有碳化硅粉末及陶瓷、碳化硼粉末及陶瓷、碳化硅陶瓷薄膜、核电碳化硼材料等。这些产品广泛应用于核电工业、军工、环保、新能源、化工等领域。

    公司陶瓷生产有常压烧结和热压烧结两种工艺。不同工艺的产品有不同的优势,适合不同的场景。非压力烧结陶瓷成本效益高,适合大批量生产。适合用作防弹材料、密封件、喷嘴、耐磨耐温材料以及普通核电材料。热压烧结生产的陶瓷适合小规模生产,可以制成较大尺寸,适合用作核电核心材料、半导体材料、靶材、防弹材料等。

    产品应用

    是金属、石墨、玻璃、高温合金等陶瓷的优良替代材料,可广泛应用于精细化工、医药、环境工程、锂电池材料、工艺陶瓷等极其恶劣的环境中。具有高腐蚀、高温、高磨损等特点。